GB/T 39145-2020
硅片表面金屬元素含量的測定 電感耦合等離子體質(zhì)譜法
Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry
GBT39145-2020, GB39145-2020
- 標(biāo)準(zhǔn)號
- GB/T 39145-2020
- 別名
- GBT39145-2020, GB39145-2020
- 發(fā)布
- 2020年
- 總頁數(shù)
- 8頁
- 發(fā)布單位
- 國家質(zhì)檢總局
- 當(dāng)前最新
- GB/T 39145-2020
- 引用標(biāo)準(zhǔn)
- GB/T 14264 GB/T 17433 GB/T 19921 GB/T 25915.1 GB/T 37837 GB/T 6624 JJF 1159
- 適用范圍
- 本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電感耦合等離子體質(zhì)譜法測定硅片表面金屬元素含量的方法。 本標(biāo)準(zhǔn)適用于硅單唱拋光片和硅外延片表面痕量金屬鈉、鎂、鋁.鉀、鈣.鉻.錳.鐵、鉆、錦、銅、鋅元素含量的測定,測定范圍為 10 cm 一10 cm“。本標(biāo)準(zhǔn)同時也適用于硅退火片、硅擴(kuò)散片等無圖形 硅片表面痕量金屬元素含量的測定。 注: 硅片表面的金屬元素含量以每平方厘米的原子數(shù)計。
| 術(shù)語 | 描述 |
|---|---|
| 掃描溶液 Scanning Solution | 通過掃描方式收集的含有硅片表面痕量金屬元素的溶液。 |
| 直接酸滴分解法 Direct Acid Droplet Decomposition (DADD) | 用含有氧氟酸的提取液分解硅片表面的氧化層，形成親水性表面，使硅片表面的痕量金屬被收集到提取液中形成掃描溶液。 |
| 氣相分解法 Vapor Phase Decomposition (VPD) | 用氧氟酸蒸汽分解硅片表面的氧化層，形成親水性表面，再用含有氧氟酸的提取液提取硅片表面的痕量金屬元素形成掃描溶液。 |
| 背景噪聲 Background Noise | 未引入被測元素（或引入空白試液）由非被測組分在被測元素譜線處產(chǎn)生的信號響應(yīng)值。 |
GB/T 39145-2020 中提到的儀器設(shè)備
其他標(biāo)準(zhǔn)
專題
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