沃特世ACQUITY UPLC BEH Amide色譜柱故障常見征兆
沃特世ACQUITY UPLC BEH
Amide色譜柱系統(tǒng)故障排除的第一步是將當(dāng)前狀態(tài)下的色譜柱同正確運(yùn)行的色譜柱進(jìn)行對比。塔板數(shù)測量方法是關(guān)鍵性首要步驟。該技術(shù)將檢測填充床的物理變化和鍵合相表面的化學(xué)變化。采用糖蛋白性能測試標(biāo)準(zhǔn)品中的核糖核酸酶A和B糖型進(jìn)行的功能測試可揭示表面填料中的更多微小變化,這些微小變化會對應(yīng)用造成影響。
下面列出了色譜柱發(fā)生變化的幾個常見的征兆。
1、應(yīng)用中壓力增大通常與性能降低相關(guān)。
診斷的第一步是確保增高的壓力源于色譜柱而不是系統(tǒng)的其它地方。這可以通過測量色譜柱連接和不連接到儀器時的壓力來進(jìn)行鑒定。如果系統(tǒng)出現(xiàn)堵塞,應(yīng)確定堵塞物并將其移除。如果壓力增加源于色譜柱,則有必要了解此問題與單次進(jìn)樣相關(guān)還是發(fā)生在一系列進(jìn)樣中。如果壓力逐漸增加,則可以按推薦方法清洗色譜柱。為實(shí)現(xiàn)更好的穩(wěn)定性,可以在清洗時添加更強(qiáng)的再生步驟。如果是單個樣品引起壓力增加,則可能表明是顆粒物質(zhì)或不溶性組分造成的。用戶仍可進(jìn)行清洗,但需要使用更為積極的清洗方法。壓力突然增高表明用戶應(yīng)考慮采用一些樣品制備步驟,如高速離心。
2、保留損失反映出色譜柱的表面填料發(fā)生了變化。進(jìn)行診斷性或糾正性測量前,請確保流動相已正確配制,并且選擇了正確的方法。然后重復(fù)塔板數(shù)測試并重復(fù)分離糖蛋白性能測試標(biāo)準(zhǔn)品。如果塔板數(shù)和糖蛋白測試均出現(xiàn)保留損失,則所測的色譜柱可能已經(jīng)失去了大部分鍵合相,需要進(jìn)行更換。如果變化較小且只出現(xiàn)在一些糖基上,則一種清洗步驟就可以達(dá)到效果。
3、峰形、分離度或峰的相對保留出現(xiàn)變化。請參照與保留損失中相同的步驟。
4、殘留和記憶效應(yīng)定義為在下個梯度分析中出現(xiàn)某個樣品成分。首先確定殘留來源于色譜柱還是系統(tǒng)。定義一種包括“內(nèi)部梯度”的梯度方法。即,分析梯度在單個方法中重復(fù)。如果兩個梯度中均出現(xiàn)殘留成分的色譜峰,且每個峰均在梯度開始后的相同時間出現(xiàn),則殘留來源于色譜柱,且通常稱作“記憶效應(yīng)”。如果這類色譜峰僅在進(jìn)樣后出現(xiàn),則殘留可能來源于對一些系統(tǒng)組分的吸收。在這種情況下,請參照儀器制造商的建議。用戶可以通過幾種方法降低或消除殘留導(dǎo)致的記憶效應(yīng)。首先,提高分離溫度可降低非特異性吸附出現(xiàn)的可能性。其次,在陡峭梯度中記憶效應(yīng)可能更明顯。使梯度斜率保持在每色譜柱體積1%或更低。最后,明顯的記憶效應(yīng)可切實(shí)反映出樣品在流動相中的溶解性。降低進(jìn)樣量可消除該效應(yīng)。
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